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三星宣布新的17nm工艺 专为仍使用28nm工艺客户而设计

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10月9日 消息:目前全球芯片领域已经在规划更先进的3nm工艺,但许多电子产品继续使用28nm工艺,这种制造工艺在10年之前就已经出现。最近,三星发布的17nm工艺节点正是瞄准了这个行业,希望可以替代28nm工艺,让一部分客户使用相对更先进的工艺。

三星代工论坛2021昨天举行,会上宣布三星将在2022年上半年推出3nm GAA工艺,并于2025年实现2nm GAA工艺芯片的商业化生产。与此同时,三星还宣布推出新的17LPV 工艺——17nm低功耗工艺。

它基本上可以说是28nm工艺的高级版本,不同之处在于它结合了28nm BEOL(Back-End-Of-Line)和14nm FEOL(Back-End-Of-Line)工艺。这可以为客户带来显着的成本降低,同时也可以突飞猛进地提高能源效率。与传统28nm工艺相比,新的17LPV工艺芯片面积减少43%,性能提升39%,能效提升49%。

该工艺的量产时间尚未公布,但三星表示,17LPV的第一个应用将是相机图像信号处理器,作为三星 CMOS 图像传感器产品组合的一部分。

此外,三星还将17LPV 工艺集成到其高功率产品中,用于需要后端高功率支持并结合改进逻辑的 DDIC/显示驱动器。


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